機器中性子放射化分析法による窒化ケイ素中痕跡フッ素の迅速定量

米澤 仲四郎; 黒澤 達也*; 松江 秀明

分析化学, 47(11), p.829 - 834, 1998/00

https://doi.org/10.2116/bunsekikagaku.47.829

短寿命核種のF(半減期11.1s)を測定する機器中性子放射化分析による、窒化ケイ素中こん跡Fの迅速定量法の検討を行った。分析は、JRR-3Mの放射化分析設備で5s照射し、7s後に10s放射能測定を行う単一照射法と、単一照射法を10min以上の間隙で5回繰返す、繰返し照射法により行った。単一照射法では窒化ケイ素中2g/g以上のFの定量が可能であり、さらに繰返し照射法では、単一照射法より検出限界が1/3~1/5以下に、また、定量精度も約1/3に改善された。照射中のFの蒸発及び妨害核反応によるNaの影響についても検討した結果、これらは無視できる程少ないことが分かった。本法によるOparl Glass及びOyster Tissue標準物質中のFの定量値は、定量値の誤差(5.2~5.9%)以内で認証値及び参考値と一致した。さらに、茶葉標準物中のFの定量も行った。また、本法の定量誤差に最も影響が大きいAl濃度とFの検出限界との関係も明らかにした。